日本shinkuu臺式真空蒸鍍裝置VE-2013介紹

發(fā)布日期：2022-03-29      瀏覽次數(shù)：1116

日本shinkuu臺式真空蒸鍍裝置VE-2013介紹

 

VE-2013是繼承了VE-2030（本公司生產(chǎn)）概念的簡易真空蒸鍍裝置。帶有內(nèi)置 TMP 的緊湊型外殼。由于是臺式機，所以不占空間。RP 放在地板上。
我們提供具有小型 TMP + RP 排氣系統(tǒng)且價格低廉的清潔、高真空氣相沉積設(shè)備。它是一種全自動控制，消除了復雜的排氣操作，只需打開/關(guān)閉觸摸面板開關(guān)。
金、鋁、鉻、銀等可以使用鎢籃進行沉積。碳氣相沉積使用使用碳 ( SLC-30 )蒸發(fā)的夾式氣相沉積槍類型。（不能使用Φ5mm碳棒。）

 

碳蒸鍍電極

碳蒸鍍電極。
它可以在高真空區(qū)域進行碳氣相沉積，并且可以形成具有優(yōu)異膜質(zhì)量和強度的碳膜。
附帶的防污罩可限度地減少碳蒸氣沉積的散射范圍，并減輕清潔負擔。
碳（SLC-30）用作碳氣相沉積源。

金屬蒸鍍電極

φ0.5mm 這是鎢籃的金屬蒸鍍電極。
可以輕松輕松地沉積金、鋁、鉻等。附帶的防污罩可限度地減少氣相沉積范圍并減輕清潔負擔。